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半导体制造和相邻应用的光学和 EUV 光刻、图案化技术、计量和工艺集成方面
光学和 EUV 纳米光刻
DTCO 和计算模式
计量、检验和过程控制
新颖的图案化技术
图案化材料和工艺的进步
用于纳米图案化的先进蚀刻技术和工艺集成
光刻设备、纳米技术产品、材料、磨料、化学品、软件、光学元件、微技术、相机和成像系统
测试测量设备、显微镜、数据计算软件、加工硬件、光学涂层和薄膜
探测器和传感器、激光器和激光系统
